جنسن هوانگ: چین تا سال ۲۰۳۰ به فناوری پیشرفته لیتوگرافی می‌رسد

جنسن هوانگ پیش‌بینی می‌کند چین تا سال۲۰۳۰تجهیزات لیتوگرافی پیشرفته بسازد، هرچند صنعت این کشور هنوز با فناوریASMLفاصله دارد.

فناوریتک‌ناکچین در سال‌های اخیر پیشرفت قابل‌توجهی در مسیر خودکفایی فناوری داشته است، اما این کشور هنوز نتوانسته ابزارهای لیتوگرافی هم‌سطح محصولات ASML را توسعه دهد.

این محدودیت، صنعت نیمه‌رسانای داخلی چین را با چالش‌های زیادی مواجه کرده است.

هوانگ در مصاحبه‌ای با پادکست The All-In درباره توانایی چین برای توسعه این تجهیزات گفت: «آن‌ها تا سال ۲۰۳۰ به این هدف می‌رسند. سال ۲۰۳۰ همین نزدیکی است. اگر بخواهید چین را درک کنید، باید بدانید که این کشور در تولید با حجم بالا بسیار خوب عمل می‌کند. این فقط مسئله زمان است.»

مدیرعامل انویدیا معمولاً نگاه مثبتی به پیشرفت فناوری چین دارد.

او پیش‌تر صنعت هوش مصنوعی چین را «درست پشت سر» آزمایشگاه‌های پیشرو آمریکا توصیف کرده بود.

سرمایه‌گذاری گسترده چین در حوزه هوش مصنوعی نیز از عواملی است که این دیدگاه را تقویت می‌کند.

وضعیت فعلی تجهیزات لیتوگرافی چین

با این حال، ممکن است هوانگ درباره صنعت نیمه‌رسانای چین و به‌ویژه بخش لیتوگرافی بیش از حد خوش‌بین باشد.

در حال حاضر، شرکت Shanghai Micro Electronics Equipment یا SMEE، به‌عنوان تولیدکننده پیشرو تجهیزات لیتوگرافی در چین، می‌تواند اسکنر خشک ArF با طول موج ۱۹۳ نانومتر را به‌صورت انبوه تولید کند.

این تجهیزات برای ساخت تراشه‌هایی با فناوری ساخت در کلاس ۹۰ نانومتر کاربرد دارند.

گزارش‌هایی نیز درباره توسعه اسکنر ArF غوطه‌وری SMEE با قابلیت ساخت تراشه‌های کلاس ۲۸ نانومتر منتشر شده است.

با این حال، شواهد عمومی درباره تولید انبوه این تجهیزات و استفاده از آن‌ها در تولید تراشه با حجم بالا وجود ندارد.

بیشتر بخوانیدجنسن هوانگ به ضیافت شام ترامپ و شی جین‌پینگ می‌رود

مسیر طولانی چین تا تولید انبوه تراشه

گزارش‌های دیگری نیز می‌گویند Shanghai Aishengna Electronic Technology Group، یکی از واحدها یا شرکت‌های وابسته به SMEE، نخستین اسکنر غوطه‌وری خود را تحویل داده است.

گفته می‌شود این دستگاه ممکن است توانایی چاپ تراشه‌های کلاس ۲۸ نانومتری را داشته باشد.

با این حال، چنین تجهیزاتی پیش از استفاده در تولید انبوه نیمه‌رساناها به فرایند گسترده‌ای برای ارزیابی و تأیید نیاز دارند.

بنابراین، حتی اگر روند استقرار این دستگاه مطابق زمان‌بندی‌های استاندارد صنعت پیش برود، چند سال زمان لازم خواهد بود تا این تجهیزات برای تولید انبوه تراشه مورد استفاده قرار گیرند.

بیشتر بخوانیدجنسن هوانگ: برای هوش مصنوعی به قوانین جدید نیاز نداریم

نوشتهجنسن هوانگ: چین تا سال ۲۰۳۰ به فناوری پیشرفته لیتوگرافی می‌رسداولین بار درTechnoc. پدیدار شد.

برای ارزیابی پایداری، امنیت و نگهداری این زیرساخت، راهنمای پشتیبانی شبکه را نیز مطالعه کنید.